三價?鉻

產(chǎn)品簡介：

三價?鉻電鍍?藝，所沉積的鍍層同樣是純?屬鉻，故仍具?屬鉻的特性，如硬度?、耐磨性及耐蝕性俱佳等，其鍍液以三價鉻化合物提供?屬鉻的來源，并以低?屬鉻含量操作，是新型環(huán)保產(chǎn)品，不含六價鉻，廢?處理簡單。電鍍時斷電不會有不良后果，沉積速度較六價鉻快。

1、鍍液組成及操作條件：

1. 操作條件 最佳值 控制范圍

2. 開缸鹽 310克/升 300-320 克/升

3. 鉻鹽 120克/升 110-130 克/升

4. 穩(wěn)定劑 120 毫升/升 100-120毫升/升

5. ?鉻發(fā)?劑 1 號 20毫升/升 10-30 毫升/升

6. 發(fā)?劑 2號 10 毫升/升 10－30毫升/升

7. 增?劑 20毫升/升 15-35 毫升/升

8. ?位劑 40 毫升/升 30-45 毫升/升

9. WA 濕潤劑 4毫升/升 3-5毫升/升

10. 氨 ? 35毫升/升 30-40 毫升/升

11. ?屬鉻（分析值） 22 克/公升 20-24 克/升

12. PH 值 2.8 2.6-3.0

溫 度 50℃ 45-55℃

? 重 26 26-27

陰極電流密度 10A/dm2

5-20A/dm2

陽極材料 專?陽極（進??墨碳板）

過 濾 連續(xù)過濾

攪 拌 輕微空?攪拌

加 熱 鈦、鐵佛?

陽極?積?陰極?積 1.5-2? 1

沉積速度 0.16-0.3um/分鐘

霍?槽打?條件： 6A、3分鐘、40℃攪拌、?位與六價鉻相似。

2、設備要求:

A）鍍 槽：PVC、ABS、聚?烯襯槽；

B）陽 極：采?專?陽極及鈦鉤；

C）溫度控制：采?鈦加熱管及鈦冷卻管裝置；

D）整流器：12-15Ｖ，提供直流電，為使鍍液穩(wěn)定建議配置安培?時積累計。

3、鍍液：本公司新開好的?作液,將其先加熱? 75-80℃，再降到 55℃

4、原料的功能及控制：

A）對鍍液的控制需要在安培?時內(nèi)對電鍍液中各成份的數(shù)量、?重、酸堿度和溫度進?

調(diào)控。為取得最佳電鍍性能，每個輪班?少需對?鉻的各種原料補充添加?次，如?作

載重?于 0.75安培/公升時補充次數(shù)應該更頻繁，定期分析鍍液各成份及按照安培?時

消耗補充?鉻的各種原料，對?鉻?藝的穩(wěn)定性?分重要。建議使??作?志記錄?產(chǎn)

線的安培分鐘?量、?重值、PH 值、溫度及?鉻的各種原料補充資料，帶?消耗可根

據(jù)?重值 26-28玻美調(diào)節(jié)；

B）CS 開缸鹽：?于提?鍍液的?重及提供鉻離?，最佳值為 26，每提??個單位

需加 25-30克/升 CS 開缸鹽，濃度過?會引起鍍液結(jié)晶，使陽極鈍化及打?管出現(xiàn)

堵塞，濃度太低時，會影響鍍液導電性能；

C）CM ?鉻鹽：補充鍍液所消耗的鉻離?，補充量為 400-500 克/千安培?時。由于

鉻鹽的溶解度較低，加?時須緩慢地逐少量加?，加? 7-8克/升的 CM 鉻鹽，可

提? 1 克/升的鉻含量；

D）ST 穩(wěn)定劑：含有 ST 穩(wěn)定劑和 GLH ?鉻發(fā)?劑，消耗量為 2000-2500

毫升/千安培?時；

E）GLH ?鉻添加劑：調(diào)整鍍層?澤均勻度。 消耗量為 20-50毫升/千安培?時；

F）GLH 發(fā)?劑：起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時；

G）GLH 增?劑：起到 消耗量為 300-500毫升/千安培?時；

H）CL ?位劑：可增?電流密度范圍。消耗量為 500-1000毫升/千安培?時；

I）WA 濕潤劑：能提??位，消耗量為 80毫升/千安培?時；

H）PH 值：可?鹽酸或濃氨?調(diào)整 PH 值，每加? 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1；每

加? 2 毫升/升濃氨?鍍液 PH 值提? 0.1，加?鹽酸或氨?之后需攪拌 2-4 ?時才可? PH

機測試鍍液的 PH 值，PH 過?三價鉻會沉淀；

I）溫 度：太低有沉淀析出，太?嚴重影響鍍層覆蓋能?。

① 鍍液的特殊性：平時?產(chǎn)?作溫度控制在 45-55℃，可以經(jīng)常性?炭芯過濾鍍液，

不影響?產(chǎn)。加料或處理缸最好加溫? 60℃以上保溫 2 ?時再降?正常溫度。?般連

續(xù)?產(chǎn) 2-3天需要選擇時間對鍍液進?加溫，使各組份絡合的更好；

② ?產(chǎn)中請按安培?時添加，并填寫記錄表。

 5、?屬雜質(zhì)控制及影響：

① 當三價?鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等?屬雜質(zhì)污染時，鍍層的?澤及外觀會受

到某程度影響。?屬雜質(zhì)含量較?時，鍍層?澤發(fā)灰。含量嚴重過多時，鍍層?澤不均，

會出現(xiàn)?條紋或?斑等情況。鍍液的帶?及?件從掛具上掉?槽中溶掉是?屬雜質(zhì)的主

要來源；

② 定期清缸，清理掉進缸底的?件，可有效防??屬雜質(zhì)對三價?鉻鍍層?澤的影響。?部份?屬雜質(zhì)如鋅、鐵及鎳，可?低電流電解清除，或可加除雜? 1號掩蔽。銅雜質(zhì)

?較敏感，需加?除雜? 2號，然后加強過濾并做電解處理，即可清除；

③ 當鍍液受銅污染時，?、中電流區(qū)灰，隨著銅雜質(zhì)濃度的增加，鍍層發(fā)?；

④ 鍍液受鎳污染時，中電流區(qū)會出現(xiàn)??鍍層，當鍍液同時含有鐵雜質(zhì)時低電流密度

區(qū)會呈??；

⑤ 鍍液受鉛離?污染時，低電流會出現(xiàn)?斑，鍍液的深鍍能?較差，含量過?時，?

電流密度區(qū)鍍層結(jié)合?下降。采?電解的?法可去除鉛的污染。

6、產(chǎn)品?錄：

★ ?鉻?作液 ★

1. 開缸鹽

2. 鉻 鹽

3. 穩(wěn)定劑

4. ?鉻添加劑

5. 發(fā)?劑

6. 增?劑

7. ?位劑

8. 濕潤劑

9. 除雜? 1 號（鎳）

10. 除雜? 2 號（銅）

11. 專?陽極（?墨碳板）

7、三價?鉻電鍍與傳統(tǒng)六價鉻電鍍的?較：

A）覆蓋能?強，電流范圍?闊，?電位燒焦現(xiàn)象減少，可掛較多數(shù)量的?件，不需沖擊

電鍍，可像酸銅、鎳般循環(huán)電鍍；

B）分散能?極佳，電鍍速度極快，厚度分布更均勻；

C）不像六價鉻電鍍?nèi)菀桩a(chǎn)??漬；

D）此?藝采?專??墨陽極，陽極使?壽命?，使鍍液免受鉛污染；

E）電鍍時使?的電流密度低，節(jié)省電?能源的消耗；

F）鍍層不含六價鉻痕漬，符合 ROHS 標準；

G）環(huán)保，不會對空?產(chǎn)?污染，?廢?處理更簡易；

H）安全操作，對從業(yè)?員的健康有保障。

8、電鍍故障及處理：

聲明：此說明書所有關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議及參數(shù)，是以本公司信賴的實驗與資料為標準。因業(yè)界同仁設

備及實際操作的各異性，故本公司不保證及不負責任可能相關(guān)之不良后果，此說明書內(nèi)所有的資料

也不?作侵犯版權(quán)的證據(jù)。